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超聲波晶片去蠟清洗工藝講解

超聲波清洗速度快、質量好,并能大大降低環境污染,因此被廣泛應用于工業領域。電子行業是超聲波清洗應用最早、最為普及的行業。電子零件和電子元器件的基體清洗都需要采用超聲波清洗。同時,該項技術還被晶片去蠟工藝采用,并發展成為主流去蠟工藝,極大的提高了晶片去蠟工藝的工作效率。

超聲波清洗原理

超聲波發生器可以將低頻電轉變成20,kHz以上的高頻電信號,通過高頻電纜輸送到換能器上。一般將超聲波換能器固定在清洗槽的底板上,清洗槽內裝滿液體,當換能器被加上高頻電壓后,它的壓電陶瓷元件在電場作用下便產生縱向振動。超聲波換能器是一種高效率的換能元件,能將電能轉換成強有力的超聲波振動。在產生超聲波振動時,相當于一個小的活塞,振幅很小,約幾微米,但振動加速度很大(幾十至幾千個g)。清洗槽上有多個換能器,當施加相同的頻率及相位的電能時,就合成了一個巨大的活塞,進行往復振動。這種振動通過固定換能器的底板傳播到清洗液,在清洗液中傳播就達到了對浸入其中的工件進行清洗的目的。

超聲清洗效應

當超聲波在介質中傳播時,與介質相互作用,使介質發生物理和化學變化,從而產生一系列力學、熱學、電磁學和化學超聲效應。在超聲波去蠟清洗中,主要利用超聲波的空化作用與機械效應(直進流作用和加速度)。空化作用就是超聲波以每秒2萬次以上的壓縮力和減壓力交互的高頻變換方式對液體進行透射。在減壓力作用下,液體中產生真空核群泡;在壓縮力作用下,真空核群泡被壓力壓碎,產生強大的沖擊力,由此剝離被清洗物表面的污垢,從而達到精密洗凈的目的。超聲波在液體中沿聲的傳播方向產生流動的現象稱為直進流。聲波強度在0.5,W/cm2時,肉眼能看到直進流,其垂直于振動面產生流動,流速約為10,cm/s。通過直進流,被清洗物表面的微油污垢被攪拌,污垢表面的清洗液也產生對流,溶解污物的溶解液與新液混合,使溶解速度加快,對污物的搬運起到了很大的作用。加速度是液體粒子推動產生的。對于頻率較高的超聲波清洗機,空化作用就很不顯著了,這時的清洗主要靠液體粒子超聲作用下的加速度撞擊粒子對污物進行超精密清洗。

超聲波清洗技術主要通過超聲波的空化、加速度和直進流作用來達到晶片表面去蠟清洗的目的,必須根據實際清洗需求,選擇合適的超聲波頻率和功率密度完成除蠟工藝。超聲波清洗技術是半導體材料制備的主要清洗方法,極大地提高了半導體材料制備的工作效率和清洗效果。

超聲波晶片去蠟清洗工藝講解

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